等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離子化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組織分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子體表面處理儀就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面,從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
等離子清洗機(jī)的工作原理:
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基);離子化的原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
在真空腔體里,通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體,通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面.以達(dá)到清洗,樣品表面改性之目的。
等離子體的種類(lèi):
活潑氣體和不活潑氣體等離子體,根據(jù)產(chǎn)生等離子體時(shí)應(yīng)用的氣體的化學(xué)性質(zhì)不同,可分為不活潑氣體等離子體和活潑氣體等離子體兩類(lèi),不活潑氣體如氬氣(Ar)、氮?dú)猓∟2)、氟化氮(NF3)、四氟化碳(CF4)等,活潑氣體如氧氣(O2)、氫氣(H2)等,不同類(lèi)型的氣體在清洗過(guò)程中的反應(yīng)機(jī)理是不同的,活潑氣體的等離子體具有更強(qiáng)的化學(xué)反應(yīng)活性
等離子清洗機(jī) 機(jī)理分析
通俗的講就是:等離子體清洗的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。
等離子清洗/刻蝕機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng),用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體愈來(lái)愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來(lái)愈長(zhǎng),受電場(chǎng)作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體,這些離子的活性很高,其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,在任何暴露的表面引起反應(yīng),不同氣體的等離子體具有不同的性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體,從而達(dá)到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿(mǎn)足刻蝕的需要。利用等離子處理時(shí)會(huì)發(fā)出輝光,故稱(chēng)之為輝光放電處理
詳細(xì)的來(lái)解釋?zhuān)?/span>電漿與材料表面可產(chǎn)生的反應(yīng)主要有兩種,一種是靠自由基來(lái)做化學(xué)反應(yīng),另一種則是靠等離子作物理反應(yīng),以下將作更具體的說(shuō)明
(1)化學(xué)反應(yīng)(Chemical reaction)--高頻電源—低電場(chǎng)---大概60V左右激發(fā)
在化學(xué)反應(yīng)里常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(O2)、甲烷(CF4?)等,這些氣體在電漿內(nèi)反應(yīng)成高活性的自由基,這些自由基會(huì)進(jìn)一步與材料表面作反應(yīng),其反應(yīng)機(jī)理主要是利用等離子體里的自由基來(lái)與材料表面做化學(xué)反應(yīng),在壓力較高時(shí),對(duì)自由基的產(chǎn)生較有利,所以若要以化學(xué)反應(yīng)為主時(shí),就必須控制較高的壓力來(lái)近進(jìn)行反應(yīng)
(2)物理反應(yīng)(Physical reaction)--低頻電源--高電場(chǎng)---大概1000V左右激發(fā)
主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊,把材料表面的原子或附著材料表面的原子的共價(jià)鍵打開(kāi),由于離子在壓力較低時(shí)的均勻自由基較輕長(zhǎng),形成能量的累積,因而在物理撞擊時(shí),離子的能量越高,越是有利于撞擊,所以若要以物理反應(yīng)為主時(shí),就必須控制較低的壓力下來(lái)進(jìn)行反應(yīng),這樣清洗效果較好
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