淺析等離子清洗機在使用中四大影響要素
更新時間:2021-07-08 點擊次數(shù):819
隨著我國科技的進步,
等離子清洗機在現(xiàn)代工業(yè)上高速發(fā)展,原因也很簡單,選擇等離子清洗機是因為它操作簡單、工作效率高、低成本、環(huán)保且去膠后表面光潔。下面小編為大家介紹等離子清洗機在使用中四大影響要素,希望對大家有所幫助。
一、 調(diào)整合適的頻率:頻率越高,氧越易電離構(gòu)成等離子體。頻率太高,以致電子振幅比其平均自由程還短,則電子與氣體分子磕碰概率反而減少,使電離率降低。通常常用頻率為 13.56MHz及2.45GHZ 。
二、 調(diào)整合適功率:關于必定量的氣體,功率大,等離子體中的的活性粒子密度也大,去膠速度也快;但當功率增大到必定值,反響所能耗費的活性離子到達飽滿,功率再大,去膠速度則無顯著添加。由于功率大,基片溫度高,所以應根據(jù)技術需求調(diào)理功率。
三、 調(diào)整適合的真空度:恰當?shù)恼婵斩?,可使電子運動的平均自由程變大,因而從電場取得的能量就大,有利電離。別的當氧氣流量必守時,真空度越高,則氧的相對份額就大,發(fā)生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過高,活性粒子濃度反而會減小。
四、 氧氣流量的調(diào)整:氧氣流量大,活性粒子密度大,去膠速率加速;但流量太大,則離子的復合概率增大,電子運動的平均自由程縮短,電離強度反而降低。若反響室壓力不變,流量增大,則被抽出的氣體量也添加,其間尚沒參與反響的活性粒子抽出量也隨之添加, 因而流量添加對去膠速率的影響也就不甚顯著。